低温沉积银和银铜薄膜的耐原子氧性能

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采用多弧离子镀方法在低温（173K）下沉积了银和银铜薄膜，通过地面原子氧模拟试验系统考察了薄膜的耐原子氧性能，通过X涉嫌衍射仪（XRD）和原子力显微镜

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