热处理温度和溅射气压对铜薄膜结构和性能影响的研究

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采用射频磁控溅射镀膜法，在不同溅射气压、不同热处理温度下制备了铜薄膜，并利用扫描电镜和X射线衍射研究了溅射气压和热处理对铜薄膜结构和性能的影响。

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